Substrate controlled degradation rate of protective SiAlN coating via mitigating interfacial reaction

降级(电信) 腐蚀 基质(水族馆) 材料科学 氧化物 冶金 合金 涂层 复合材料 化学工程 工程类 地质学 计算机科学 电信 海洋学
作者
Zhaohe Gao,Han Liu,Justyna Kulczyk-Malecka,Conghui Liu,Hu Da,Peter Kelly,Ping Xiao
出处
期刊:Corrosion Science [Elsevier]
卷期号:213: 111006-111006
标识
DOI:10.1016/j.corsci.2023.111006
摘要

The degradation rates of protective SiAlN coatings (0.9 µm thick) on pure Ti, Ti6Al4V, and Timetal 834 alloys in air at 800 °C were investigated and compared. The SiAlN coating on pure Ti was depleted and then formed a thin oxide scale after exposure of 50 h, whereas a 0.6 µm thick remnant SiAlN coating without any signs of oxidation was observed on Timetal 834. Interfacial reactions between SiAlN coatings and different substrates caused depletion of SiAlN, thereby determining the degradation rates of SiAlN coatings. The non-reactive alloying elements Sn and Al in Timetal 834 alloy could retard such interfacial reactions, thereby impeding coating degradation.
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