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Advanced atomic layer deposition: metal oxide thin film growth using the discrete feeding method

原子层沉积 材料科学 图层（电子） 沉积（地质） 金属 氧化物 杂质 薄膜 化学工程 冶金 纳米技术 有机化学 化学 古生物学 沉积物 工程类 生物
作者
Jae Chan Park,Chang Ik Choi,Sang‐Gil Lee,Seung Jo Yoo,Ji‐Hyun Lee,Jae Hyuck Jang,Woo‐Hee Kim,Ji‐Hoon Ahn,Jeong Hwan Kim,Tae Joo Park
出处
期刊：Journal of Materials Chemistry C [The Royal Society of Chemistry]
日期：2023-01-01 卷期号：11 (4): 1298-1303 被引量：7
标识
DOI：10.1039/d2tc03485a
摘要
A HfO 2 film was grown using discrete feeding ALD, an advanced ALD process designed to improve the surface coverage of the precursor, which decreased the residual impurities in the film and increased the film density.
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