Phase structure evolution on Ni-Mn-Ga/Si (100) thin films: Effect of substrate temperature

材料科学 粒度 微观结构 纳米压痕 矫顽力 基质(水族馆) 相(物质) 衍射 薄膜 结晶学 凝聚态物理 复合材料 纳米技术 光学 海洋学 物理 地质学 有机化学 化学
作者
Sandeep Kumar,M. Mahendran,M. Manivel Raja,V.L. Niranjani,P.K. Mukhopadhyay
出处
期刊:Intermetallics [Elsevier]
卷期号:101: 18-26 被引量:4
标识
DOI:10.1016/j.intermet.2018.07.006
摘要

This study investigated microstructure evolution, thermo-magnetic and mechanical behavior of magnetic shape memory thin film at different substrate temperature. X-ray diffraction measurements reveal the evolution of different phase structure concerning substrate temperature. According to microstructure analysis, the grain size increases with the substrate temperature and also the shape of the grain changed from pyramidal to spherical. A strong dependence of magnetic properties on grain size and phase structure is also observed. Coercivity is found to decrease with increasing substrate temperature up to a minimum value of 62 Oe for the film deposited at 773 K and with further increase in substrate temperature it is found to increase. Based on the relationship between grain size and the nanoindentation results, the decline in the hardness and elastic moduli can be reasonably inferred to be associated with enlarged grain size, consistent with the "Hall–Petch" effect and the grain refinement mechanism.
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