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Environmental stability investigation on electron-beam deposited coatings with dense capping layer

材料科学 扫描电子显微镜 离子束辅助沉积 电子束诱导沉积 化学气相沉积 光学 激光器 聚焦离子束 残余应力 水蒸气 沉积(地质) 涂层 压力(语言学) 梁(结构) 光电子学 环境扫描电子显微镜 图层(电子) 光学涂层 离子束 复合材料 离子 扫描透射电子显微镜 物理 化学 有机化学 古生物学 哲学 生物 语言学 沉积物
作者
Tingting Zeng,Meiping Zhu,Yingjie Chai,Rongjun Zhang,Huasong Liu,Chaoyi Yin,Nuo Xu,Yuanan Zhao,Jianda Shao
出处
期刊:Optical Engineering [SPIE - International Society for Optical Engineering]
卷期号:57 (08): 1-1 被引量:5
标识
DOI:10.1117/1.oe.57.8.086114
摘要

The properties of coatings deposited by electron-beam (e-beam) technique can be easily influenced by environmental humidity, causing spectrum shift, residual stress evolution, and wave front errors. HfO2 / SiO2 multilayer coatings with different overcoat layer deposition parameters have been prepared. The optical spectrum shifts induced by atmosphere-vacuum effect are investigated by a spectrometer. The laser resistance is studied and their damage morphologies are characterized by a scanning electron microscope. The surface morphologies and the global mechanical stresses of the films are analyzed by an atomic force microscope and zygo interferometer, respectively. The experimental results demonstrate that by introducing a dense capping SiO2 layer employed with plasma ion assisted deposition, considerable environmental stability of e-beam coatings can be improved due to retarded water vapor transport. A relatively smaller grain size can be obtained as well. Moreover, the laser-induced damage threshold shows no significant difference.

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