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67‐2: Requirement of a Polyimide Substrate to Achieve High Thin‐film‐transistor Reliability

材料科学 聚酰亚胺 薄膜晶体管 光电子学 可靠性(半导体) 电阻率和电导率 基质(水族馆) 晶体管 图层(电子) 复合材料 电气工程 工程类 海洋学 物理 地质学 功率(物理) 电压 量子力学
作者
Tomoatsu Kinoshita,Yuichiro Ishiyama,Takahiro Fujimori,Keisuke Masuda,Kenichi Takahashi,Masanobu Tanaka,Toshiaki Arai
出处
期刊:Sid's Digest Of Technical Papers [Wiley]
卷期号:49 (1): 888-891 被引量:13
标识
DOI:10.1002/sdtp.12242
摘要

The reliability of top‐gate oxide thin‐film‐transistors on a polyimide substrate correlates with the volume resistivity of the polyimide substrate. Hence, the polyimide used as a TFT substrate should have a high resistivity of 3×10 17 ohm‐cm or more to ensure high TFT reliability equal to the TFT on a glass substrate.

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