67‐2: Requirement of a Polyimide Substrate to Achieve High Thin‐film‐transistor Reliability

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作者
Tomoatsu Kinoshita,Yuichiro Ishiyama,Takahiro Fujimori,Keisuke Masuda,Kenichi Takahashi,Masanobu Tanaka,Toshiaki Arai
出处
期刊:Sid's Digest Of Technical Papers [Wiley]
卷期号:49 (1): 888-891 被引量:13
标识
DOI:10.1002/sdtp.12242
摘要

The reliability of top‐gate oxide thin‐film‐transistors on a polyimide substrate correlates with the volume resistivity of the polyimide substrate. Hence, the polyimide used as a TFT substrate should have a high resistivity of 3×10 17 ohm‐cm or more to ensure high TFT reliability equal to the TFT on a glass substrate.
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