In(Ga)N Nanostructures and Devices Grown by Molecular Beam Epitaxy and Metal-Assisted Photochemical Etching

材料科学 分子束外延 蚀刻(微加工) 纳米结构 氮化物 纳米技术 兴奋剂 发光二极管 外延 光电子学 图层(电子)
作者
Abdul Kareem K. Soopy,Zhaonan Li,Tianyi Tang,Jiaqian Sun,Bo Xu,Chao Zhao,Adel Najar
出处
期刊:Nanomaterials [MDPI AG]
卷期号:11 (1): 126-126 被引量:8
标识
DOI:10.3390/nano11010126
摘要

This review summarizes the recent research on nitride nanostructures and their applications. We cover recent advances in the synthesis and growth of porous structures and low-dimensional nitride nanostructures via metal-assisted photochemical etching and molecular beam epitaxy. The growth of nitride materials on various substrates, which improves their crystal quality, doping efficiency, and flexibility of tuning performance, is discussed in detail. Furthermore, the recent development of In(Ga)N nanostructure applications (light-emitting diodes, lasers, and gas sensors) is presented. Finally, the challenges and directions in this field are addressed.
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