Very high voltage operation (>330 V) with high current gain of AlGaN/GaN HBTs

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作者
Huili Grace Xing,P. Chavarkar,S. Keller,Steven P. DenBaars,Umesh K. Mishra
出处
期刊:IEEE Electron Device Letters [Institute of Electrical and Electronics Engineers]
卷期号:24 (3): 141-143 被引量:46
标识
DOI:10.1109/led.2003.811400
摘要

N-p-n Al/sub 0.05/GaN/GaN heterojunction bipolar transistors with a common emitter operation voltage higher than 330 V have been demonstrated using selectively regrown emitters. Devices were grown by metalorganic chemical vapor deposition on sapphire substrates. The n-type emitter was grown selectively on a 100-nm-thick p-base with an 8 μm n-collector structure using a dielectric mask. The shallow etch down to the collector mitigates damages induced in the dry etch, resulting a low leakage and a high breakdown. The graded AlGaN emitter results in a common emitter current gain of /spl sim/18 at an average collector current density of up to 1 kA/cm 2 at room temperature.

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