Band offset trends in IV–VI layered semiconductor heterojunctions

带偏移量 异质结 半导体 光电子学 价带 偏移量(计算机科学) 材料科学 离子 跨坐 带隙 凝聚态物理 化学 物理 计算机科学 经济 有机化学 程序设计语言 财务
作者
Wei Wang,Chen Qiu,Chenhai Shen,Lin Li,Kaike Yang,Zhongming Wei,Hui‐Xiong Deng,Congxin Xia
出处
期刊:Journal of Physics: Condensed Matter [IOP Publishing]
卷期号:34 (19): 195003-195003 被引量:6
标识
DOI:10.1088/1361-648x/ac5707
摘要

The band offsets between semiconductors are significantly associated with the optoelectronic characteristics and devices design. Here, we investigate the band offset trends of few-layer and bulk IV-VI semiconductors MX and MX2(M = Ge, Sn; X = S, Se, Te). For common-cation (anion) systems, as the atomic number increases, the valence band offset of MX decreases, while that of MX2has no distinct change, and the physical origin can be interpreted using band coupling mechanism and atomic potential trend. The band edges of GeX2system straddle redox potentials of water, making them competitive candidates for photocatalyst. Moreover, layer number modulation can induce the band offset of GeSe/SnS and GeSe2/GeS2heterojunction undergoing a transition from type I to type II, which makes them suitable for optoelectronic applications.

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