Halogen bonding: the σ-hole

电负性 卤素 卤键 化学 分子 共价键 结晶学 电子 化学键 立体化学 计算化学 原子物理学 分子中的原子 物理 有机化学 量子力学 烷基
作者
Timothy Clark,Matthias Hennemann,Jane S. Murray,Peter Politzer
出处
期刊:Journal of Molecular Modeling [Springer Science+Business Media]
卷期号:13 (2): 291-296 被引量:2152
标识
DOI:10.1007/s00894-006-0130-2
摘要

Halogen bonding refers to the non-covalent interactions of halogen atoms X in some molecules, RX, with negative sites on others. It can be explained by the presence of a region of positive electrostatic potential, the sigma-hole, on the outermost portion of the halogen's surface, centered on the R-X axis. We have carried out a natural bond order B3LYP analysis of the molecules CF(3)X, with X = F, Cl, Br and I. It shows that the Cl, Br and I atoms in these molecules closely approximate the [Formula: see text] configuration, where the z-axis is along the R-X bond. The three unshared pairs of electrons produce a belt of negative electrostatic potential around the central part of X, leaving the outermost region positive, the sigma-hole. This is not found in the case of fluorine, for which the combination of its high electronegativity plus significant sp-hybridization causes an influx of electronic charge that neutralizes the sigma-hole. These factors become progressively less important in proceeding to Cl, Br and I, and their effects are also counteracted by the presence of electron-withdrawing substituents in the remainder of the molecule. Thus a sigma-hole is observed for the Cl in CF(3)Cl, but not in CH(3)Cl.
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