Spectral interference ellipsometry for film thickness measurement on transparent substrate

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作者
Jinxu Zhang,Liheng Shi,Ruixue Zhang,Jiayang Chen,Guanhao Wu
出处
期刊:Optics and Lasers in Engineering [Elsevier BV]
卷期号:171: 107819-107819 被引量:1
标识
DOI:10.1016/j.optlaseng.2023.107819
摘要

Measuring film thickness on transparent substrate is crucial and universal for semiconductor chips. This paper proposes an orthogonal polarization common-path film thickness measurement system without the frustration of back-surface reflection based on spectral interference ellipsometry. The proposed system demonstrates that the phase stability of spectral interference reached 5×10-4 rad under common path. Combined with ellipsometry, the back-surface reflection issues were theoretically deduced and solved by the proposed system. The measured thicknesses of three kinds of film specimens on transparent substrates agreed well with those determined using a commercial ellipsometer. The measurement precision was greater than 1 nm.
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