Wet Oxide Etching of Dual Gate Oxide for 0.13μm Technologies and Beyond: Interaction with Photoresist and Equipment

光刻胶 材料科学 氧化物 蚀刻(微加工) 栅氧化层 对偶(语法数字) 冶金 光电子学 纳米技术 电气工程 晶体管 工程类 文学类 艺术 电压 图层(电子)
作者
Simon Y.M. Chooi,Sang-Yee Loong,Christopher Y. Lim,Zainab Ismail,Tjin-Tjin Tjoa
出处
期刊:Solid State Phenomena 卷期号:92: 85-88 被引量:2
标识
DOI:10.4028/www.scientific.net/ssp.92.85
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