The Formation and Crystal Structure of Silicon Carbide

石墨 碳化硅 六方晶系 材料科学 分解 Crystal(编程语言) 相(物质) 结晶学 化学工程 化学 复合材料 冶金 有机化学 程序设计语言 工程类 计算机科学
作者
A. Taylor,D S Laidler
出处
期刊:British Journal of Applied Physics [IOP Publishing]
卷期号:1 (7): 174-181 被引量:67
标识
DOI:10.1088/0508-3443/1/7/303
摘要

The presence of cubic β-SiC has been identified by X-ray photographs when graphite and silicon are heated together at temperatures as low as 1 150°C, and when vitreous silica is heated with graphite the carbide is formed at 1 450-1 475°C, probably by a vapour phase reaction. No matter how the starting materials may be varied in nature and in proportion, face-centred cubic carborundum is always formed, unless the temperature is in the region of the decomposition point. Near 2 000°C face-centred cubic carborundum begins to decompose, as shown by the presence of graphite lines in an X-ray photograph, and lines corresponding to the hexagonal modification II appear. Light green commercial carborundum shows faint graphite lines when heated at 2 000°C, while at 2 050°C it turns black and a large amount of macrocrystalline graphite is formed. The long soaking periods, high vapour pressure, and high temperature conditions occurring in commercial processes favour the formation of large crystals of modification II.
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