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The diffusion of ionized impurities in semiconductors

杂质 扩散 半导体 电离 材料科学 化学物理 原子物理学 凝聚态物理 化学 物理 热力学 光电子学 离子 有机化学
作者
J. W. Allen
出处
期刊:Journal of Physics and Chemistry of Solids [Elsevier]
卷期号:15 (1-2): 134-139 被引量:19
标识
DOI:10.1016/0022-3697(60)90110-4
摘要

Abstract The diffusion coefficient of an impurity in a semiconductor depends on the state of ionization of the impurity, i.e. on whether the Fermi level lies above or below the impurity energy level. A simple model, namely the one-dimensional diffusion of a shallow acceptor, is used to illustrate this and the results are applied to the diffusion of zinc in gallium arsenide.
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