杂质
扩散
半导体
电离
材料科学
化学物理
原子物理学
凝聚态物理
化学
物理
热力学
光电子学
离子
有机化学
标识
DOI:10.1016/0022-3697(60)90110-4
摘要
Abstract The diffusion coefficient of an impurity in a semiconductor depends on the state of ionization of the impurity, i.e. on whether the Fermi level lies above or below the impurity energy level. A simple model, namely the one-dimensional diffusion of a shallow acceptor, is used to illustrate this and the results are applied to the diffusion of zinc in gallium arsenide.
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