Gate-Voltage-Modulated Spin Precession in Graphene/WS2 Field-Effect Transistors

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作者
Amir Muhammad Afzal,Muhammad Farooq Khan,Jonghwa Eom
出处
期刊:Electronics [MDPI AG]
卷期号:10 (22): 2879-2879 被引量:9
标识
DOI:10.3390/electronics10222879
摘要

Transition metal dichalcogenide materials are studied to investigate unexplored research avenues, such as spin transport behavior in 2-dimensional materials due to their strong spin-orbital interaction (SOI) and the proximity effect in van der Waals (vdW) heterostructures. Interfacial interactions between bilayer graphene (BLG) and multilayer tungsten disulfide (ML-WS2) give rise to fascinating properties for the realization of advanced spintronic devices. In this study, a BLG/ML-WS2 vdW heterostructure spin field-effect transistor (FET) was fabricated to demonstrate the gate modulation of Rashba-type SOI and spin precession angle. The gate modulation of Rashba-type SOI and spin precession has been confirmed using the Hanle measurement. The change in spin precession angle agrees well with the local and non-local signals of the BLG/ML-WS2 spin FET. The operation of a spin FET in the absence of a magnetic field at room temperature is successfully demonstrated.
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