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Fourfold Polarization‐Sensitive Photodetector Based on GaTe/MoS2 van der Waals Heterojunction

光电探测器 材料科学 异质结 响应度 光电子学 范德瓦尔斯力 光电流 双极扩散 各向异性 极化(电化学) 光学 电子 物理 物理化学 化学 量子力学 分子
作者
Jin Yi Tan,Haiyan Nan,Quangui Fu,Xiu‐Mei Zhang,Xing Liu,Zhenhua Ni,Kostya Ostrikov,Shaoqing Xiao,Xiaofeng Gu
出处
期刊:Advanced electronic materials [Wiley]
卷期号:8 (1) 被引量:33
标识
DOI:10.1002/aelm.202100673
摘要

Abstract Integrated polarization‐sensitive photodetectors fabricated by geometric anisotropic 2D materials have become attractive in recent years. In this work, the successful construction of self‐driven and polarization‐sensitive photodetectors based on GaTe/MoS 2 p–n van der Waals (vdW) heterojunction is demonstrated by mechanical exfoliation and dry transfer methods. The fabricated GaTe/MoS 2 vdW heterojunctions show ambipolar behavior, and the highest rectification ratio can reach 93.4. The highest responsivity under 532 nm illumination reaches 145 mA W −1 and the response time is less than 10 ms. Moreover, the photocurrent polarization of the fabricated GaTe/MoS 2 photodetectors manifests in fourfold anisotropy with a high polarization ratio of 2.9, which can be ascribed to the highly anisotropic monoclinic structure of layered m‐GaTe. This finding thus offers more information and creates new opportunities about how to fabricate integrated polarization‐sensitive photodetectors.

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