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Highly selective adsorption of SO2 on WX2 (X = S, Se, Te) monolayers and the effect of strain engineering: a DFT study

单层 吸附 材料科学 密度泛函理论 化学 自组装单层膜
作者
Jianlian Liu,Chaojun Du,Yanping Duan,Hong Hao
出处
期刊:Journal of Computational Electronics [Springer Nature]
卷期号:20 (5): 1874-1883
标识
DOI:10.1007/s10825-021-01757-w
摘要

A model of the SO2 molecule is first established, then its adsorption on various monolayers is studied by using a first-principles method. The calculation results show that intrinsic WX2 (X = S, Se, Te) exhibits weak adsorption of SO2, corresponding to a physical adsorption mechanism. The adsorption of SO2 on the WX2 systems doped with As and Ge is calculated and compared based on the first-principles method, revealing that the doped WX2 materials exhibit stronger adsorption of SO2. The single-doped Ge/WTe2 shows greater stability when adsorbing gas molecules according to the degree of change in the structure, while its adsorption energy, charge density, band structure, and density-of-states diagrams confirm its enhanced adsorption characteristics for SO2 gas.
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