Two-dimensional semiconductor materials with high stability and electron mobility in group-11 chalcogenide compounds: MNX (M = Cu, Ag, Au; N = Cu, Ag, Au; X = S, Se, Te; M ≠ N)

硫系化合物 半导体 带隙 单层 材料科学 光电子学 电子迁移率 纳米电子学 纳米技术
作者
Wei Shangguan,Cuixia Yan,Wenqing Li,Long Chen,Liming Li,Chenchen Qi,Qiuyang Li,Yan Zhou,Yurou Guan,Lei Gao,Jinming Cai
出处
期刊:Nanoscale [The Royal Society of Chemistry]
卷期号:14 (11): 4271-4280 被引量:5
标识
DOI:10.1039/d1nr06971c
摘要

It is still an urgent task to find new two-dimensional (2D) semiconductor materials with a suitable band gap, high stability and high mobility for the applications of next generation electronic devices. Based on first-principles calculations, we report a new class of 2D group-11-chalcogenide trielement monolayers (MNX, where M = Cu, Ag, Au; N = Cu, Ag, Au; X = S, Se, Te; M ≠ N) with a wide band gap, excellent stability (dynamic stability, thermodynamic stability and environmental stability) and high mobility. At the mixed density functional level, the energy band gap extends from 0.61 eV to 2.65 eV, covering the ultraviolet-A and visible light regions, which is critical for a broadband optical response. For δ-MNX monolayers, the carrier mobility is as high as 104 cm2 V-1 s-1 at room temperature. In particular, the mobility of δ-AgAuS is as high as 6.94 × 104 cm2 V-1 s-1, which is of great research significance for the application of electronic devices in the future. Based on the above advantages, group-11 chalcogenide MNX monomolecular films have broad prospects in the field of nanoelectronics and optoelectronics in the future.
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