Zeta potential-tunable silica abrasives and fluorinated surfactants in chemical mechanical polishing slurries

化学机械平面化 材料科学 薄脆饼 泥浆 Zeta电位 抛光 磨损(机械) 胶体二氧化硅 纳米技术 制作 表面粗糙度 化学工程 复合材料 纳米颗粒 涂层 病理 替代医学 工程类 医学
作者
Seung-Chul Hong,Deoksu Han,Keon‐Soo Jang
出处
期刊:Wear [Elsevier BV]
卷期号:466-467: 203590-203590 被引量:12
标识
DOI:10.1016/j.wear.2020.203590
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