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Chemical vapor deposition of silicon from silane: Review of growth mechanisms and modeling/scaleup of fluidized bed reactors

三氯氢硅 硅烷 流化床 工艺工程 原材料 废物管理 热解 材料科学 化学工程 环境科学 纳米技术 化学 工程类 有机化学 冶金
作者
Werner Filtvedt,A. Holt,P.A. Ramachandran,Morten C. Melaaen
出处
期刊:Solar Energy Materials and Solar Cells [Elsevier]
卷期号:107: 188-200 被引量:86
标识
DOI:10.1016/j.solmat.2012.08.014
摘要

For an installed silicon based solar cell panel, about 40% of the energy costs involved in the production of the panels can be attributed to the production of the silicon feedstock itself (poly production and crystal growth). Hence reducing the energy consumption in these steps is crucial in order to minimize the energy payback time of installed capacity. For the first step, viz., the poly production, the most promising cost reduction alternative is the fluidized bed reactors (FBR) using silane as a precursor rather than trichlorosilane (TCS) since for TCS the reverse reactions makes the theoretical trichlorosilane conversion substantially lower. Use of silane has, however, many challenges and scaleup to larger capacity can be achieved if associated risks are properly dealt with. This paper outlines some of these challenges and provides a detailed survey of the current status on the growth mechanism and kinetics of silane pyrolysis. The paper also provides a summary of modeling of fluidized bed reactors (FBR) in some depth and give some empirical insight to key aspects in FBR scaleup design.
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