Phase-field model of domain structures in ferroelectric thin films

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作者
Yulan Li,Shenyang Hu,Zi‐Kui Liu,Long‐Qing Chen
出处
期刊:Applied Physics Letters [American Institute of Physics]
卷期号:78 (24): 3878-3880 被引量:301
标识
DOI:10.1063/1.1377855
摘要

A phase-field model for predicting the coherent microstructure evolution in constrained thin films is developed. It employs an analytical elastic solution derived for a constrained film with arbitrary eigenstrain distributions. The domain structure evolution during a cubic→tetragonal proper ferroelectric phase transition is studied. It is shown that the model is able to simultaneously predict the effects of substrate constraint and temperature on the volume fractions of domain variants, domain-wall orientations, domain shapes, and their temporal evolution.
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