Effects of proton implantation into 4H-SiC substrate: Stacking faults in epilayer on the substrate

材料科学 堆积 基质(水族馆) 光电子学 质子 核磁共振 海洋学 物理 量子力学 地质学
作者
Masashi Kato,Ohga Watanabe,Shunta Harada,Hitoshi Sakane
出处
期刊:Materials Science in Semiconductor Processing [Elsevier]
卷期号:175: 108264-108264 被引量:3
标识
DOI:10.1016/j.mssp.2024.108264

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