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Challenges and advancements in p-GaN gate based high electron mobility transistors (HEMTs) on silicon substrates

材料科学 晶体管 光电子学 硅 电子 感应高电子迁移率晶体管 高电子迁移率晶体管 电子迁移率 工程物理 纳米技术 电气工程 工程类 物理 量子力学 电压
作者
Mankang Zhu,Guoxin Li,Hangtian Li,Zhonghong Guo,Yingguo Yang,Jingzhi Shang,Youjun Feng,Yunshu Lu,Zexi Li,Jinmin Li,Fangliang Gao,W. Wei,Shuti Li
出处
期刊：Journal of Materials Chemistry C [The Royal Society of Chemistry]
日期：2024-01-01
标识
DOI：10.1039/d4tc02720e
摘要
This review highlights the challenges and advancements in p-GaN gate HEMTs on silicon substrates. It also discusses several attempts to enhance device performance and explores the future developments of p-GaN gate HEMT.
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