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Improving quality of AlN films on GaAs substrate via in-situ plasma pre-treatment in plasma enhanced atomic layer deposition

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作者
Hongyu Qiu,Jin Yang,Peng Qiu,Xiaoli Zhu,Heng Liu,Huiyun Wei,Mingzeng Peng,Xinhe Zheng
出处
期刊:Materials Letters [Elsevier BV]
卷期号:367: 136676-136676
标识
DOI:10.1016/j.matlet.2024.136676

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