Application of an optimized alkaline cleaning solution for inhibitor removal during the post-CMP process: Performance evaluation and mechanism analysis

化学机械平面化 苯并三唑 X射线光电子能谱 聚乙烯吡咯烷酮 化学 化学工程 抛光 材料科学 无机化学 冶金 有机化学 工程类
作者
Wei Li,Baimei Tan,Shihao Zhang,Baohong Gao,Tengda Ma,Lei Guo,Haoyu Du,Fangyuan Wang,Xiaolong Wang
出处
期刊:Journal of Molecular Liquids [Elsevier]
卷期号:369: 120892-120892 被引量:14
标识
DOI:10.1016/j.molliq.2022.120892

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