Response time characteristics of a transmissive uniformly doped GaAsP photocathode

光电阴极 量子效率 扩散 电子 材料科学 兴奋剂 光学 焊剂(冶金) 图层(电子) 物理 量子阱 光电子学 原子物理学 纳米技术 量子力学 冶金 激光器
作者
Tiantian Jia,Linyu Gan,Xin Guo,Hongjin Qiu,Ruoyu Zhang,Xuchuan Liu,Jinjuan Du,Yijun Zhang,Lei Liu
出处
期刊:Applied Optics [Optica Publishing Group]
卷期号:62 (33): 8804-8804 被引量:3
标识
DOI:10.1364/ao.503832
摘要

In this paper, the matrix difference method is used to calculate the photoelectron continuity equation and the outgoing electron flux density equation. The effects of the GaAsP/AlGaAsP recombination rate, electron diffusion coefficient, and activation layer thickness on the time-resolved characteristics and quantum efficiency of a GaAsP photocathode are systematically studied, and the accuracy of the theoretical calculation is verified by experiments. The response speed and quantum efficiency of the GaAsP photocathode can be greatly improved by adjusting the thickness of the GaAsP activation layer reasonably.
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