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Solution-processed amorphous zinc indium tin oxide thin-film transistors with high stability under AC stress

材料科学 薄膜晶体管 无定形固体 锌 锡 铟 压力（语言学） 氧化铟锡 图层（电子） 薄膜 氧化物 光电子学 冶金 复合材料 纳米技术 结晶学 语言学 化学 哲学
作者
Dongil Ho,Hyewon Jeong,Hun‐Bum Park,Sung Kyu Park,Myung‐Gil Kim,Choongik Kim
出处
期刊：Journal of Materials Chemistry C [The Royal Society of Chemistry]
日期：2023-01-01 卷期号：11 (39): 13395-13402 被引量：1
标识
DOI：10.1039/d3tc02439c
摘要
Amorphous zinc–indium–tin oxide thin-film transistors with various Zn : In : Sn ratios are investigated to improve AC stress stability by suppressing hot carrier effects in the channel layer.
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