Patterning microfluidic device wettability with spatially-controlled plasma oxidation

微流控 润湿 纳米技术 等离子体 材料科学 复合材料 物理 量子力学
作者
Samuel Kim,David J. Sukovich,Adam R. Abate
出处
期刊:Lab on a Chip [The Royal Society of Chemistry]
卷期号:15 (15): 3163-3169 被引量:69
标识
DOI:10.1039/c5lc00626k
摘要

Microfluidic devices can form double emulsions with uniform properties, but require cumbersome fabrication steps to pattern their wettability. We demonstrate spatially-controlled plasma oxidation to create wettability patterns for forming double emulsions. Our method performs comparably to chemical techniques but is simpler, more reliable, and scalable to patterning large arrays of drop makers.
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