Effect of halogen substituents on C–N bond strength in nitromethane

化学 卤素 卤键 硝基甲烷 密度泛函理论 计算化学 自然键轨道 反应性(心理学) 立体化学 药物化学 硝基 氢键 从头算 分子 有机化学 烷基
作者
Г. М. Храпковский,А. Г. Шамов,Roman Tsyshevsky,Д. В. Чачков,Д Л Егоров,И. В. Аристов
出处
期刊:Computational and Theoretical Chemistry [Elsevier BV]
卷期号:985: 80-89 被引量:3
标识
DOI:10.1016/j.comptc.2012.02.003
摘要

Abstract Present theoretical study has been carried out with objective to reveal effect of chlorine and fluorine substituents on C–N bond strength in nitromethane. Gn, W1 and CBS-QB3 composite techniques were employed to compute accurate values of formation enthalpies of halogenated nitromethanes, corresponding radicals and ΔrH0(C–N) values. Calculations on DFT and ab initio levels were performed using B3LYP and QCISD methods. It was found that substitution of hydrogen by fluorine atoms causes only slightly decreasing of ΔrH0(C–N), whereas accumulation of chlorine atoms tends to decrease C–N bond strength significantly. Formation enthalpies of halogenated nitromethanes and corresponding radicals were calculated using both atomization approach and involving isodesmic reactions.

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