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Microstructure Evolution Induced by Ultraviolet Light Irradiation in Ti-Si Codoped Diamond-like Carbon films

材料科学 微观结构 拉曼光谱 紫外线 溅射沉积 辐照 紫外线 无定形固体 钻石 无定形碳 溅射 复合材料 薄膜 光电子学 纳米技术 结晶学 光学 化学 核物理学 物理
作者
Jiang Jin-long,Wang Qiong,Huang Hao,Zhang Xia,Wang Yu-Bao,Geng Qing-Fen
出处
期刊:Journal of Inorganic Materials [Shanghai Institute of Ceramics]
卷期号:29 (9): 941-941
标识
DOI:10.15541/jim20130635
摘要

Titanium/silicon co-doped diamond-like carbon films were deposited on Si substrate by middle frequency magnetron sputtering using Ti80Si20 composite as target. The microstructure of the deposited films was characterized by ultraviolet and visible multi-wavelength Raman spectroscope. The influence of ultraviolet light irradiation on microstructure of the films was investigated by a combination of Raman and FTIR spectroscope. The mechanism of microstructural evolution of the films induced by ultraviolet light irradiation was discussed. The results show that the film dominated by amorphous structure displays inclusions of trans-polyacetylene, p-phenylene vinylene and sp hybridized carbine carbon chains. Ultraviolet light irradiation induces the relaxation and reconstruction of microstructure in the films, which leads to the increase of Si–O and C–O bonding, and the decrease of C=C and C–H bonding. Meanwhile, the size of sp clusters in the films decreases and the degree of disorder of sp clusters increases.
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