Accumulation hole layer in p-GaN/AlGaN heterostructures

异质结 材料科学 光电子学 宽禁带半导体 兴奋剂 图层(电子) 压电 极化(电化学) 凝聚态物理 化学 纳米技术 复合材料 物理 物理化学
作者
M. S. Shur,Alexei Bykhovski,R. Gaška,Jinwei Yang,G. Simin,Muhammad Khan
出处
期刊:Applied Physics Letters [American Institute of Physics]
卷期号:76 (21): 3061-3063 被引量:59
标识
DOI:10.1063/1.126579
摘要

We present the results on piezoelectric and pyroelectric doping in AlGaN-on-GaN and GaN-on-AlGaN heterostructures and demonstrate p-GaN/AlGaN structures with accumulation hole layer. Our results indicate that polarization charge can induce up to 5×1013 cm−2 holes at the AlGaN/GaN heterointerfaces. We show that the transition from three-dimensional (3D) to two-dimensional (2D) hole gas can be only achieved for hole sheet densities on the order of 1013 cm−2 or higher. At lower densities, only 3D-hole accumulation layer may exist. These results suggest that a piezoelectrically induced 2D-hole gas can be used for the reduction of the base spreading resistance in AlGaN/GaN-based heterostructure bipolar transistors.

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