A silicon-on-insulator slab for topological valley transport

光子学 绝缘体上的硅 纳米光子学 拓扑绝缘体 物理 拓扑(电路) 光子晶体 Berry连接和曲率 光电子学 光学 几何相位 凝聚态物理 数学 组合数学
作者
Xin‐Tao He,En-Tao Liang,Jiajun Yuan,Hao-Yang Qiu,Xiao‐Dong Chen,Fuli Zhao,Jian‐Wen Dong
出处
期刊:Nature Communications [Springer Nature]
卷期号:10 (1) 被引量:129
标识
DOI:10.1038/s41467-019-08881-z
摘要

Backscattering suppression in silicon-on-insulator (SOI) is one of the central issues to reduce energy loss and signal distortion, enabling for capability improvement of modern information processing systems. Valley physics provides an intriguing way for robust information transfer and unidirectional coupling in topological nanophotonics. Here we realize topological transport in a SOI valley photonic crystal slab. Localized Berry curvature near zone corners guarantees the existence of valley-dependent edge states below light cone, maintaining in-plane robustness and light confinement simultaneously. Topologically robust transport at telecommunication is observed along two sharp-bend interfaces in subwavelength scale, showing flat-top high transmission of ~10% bandwidth. Topological photonic routing is achieved in a bearded-stack interface, due to unidirectional excitation of valley-chirality-locked edge state from the phase vortex of a nanoscale microdisk. These findings show the prototype of robustly integrated devices, and open a new door towards the observation of non-trivial states even in non-Hermitian systems.
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