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Fatigue mechanism of yttrium-doped hafnium oxide ferroelectric thin films fabricated by pulsed laser deposition

钇 脉冲激光沉积 材料科学 薄膜 兴奋剂 铁电性 铪 沉积（地质） 氧化物 光电子学 纳米技术 冶金 电介质 锆 地质学 古生物学 沉积物
作者
Fei Huang,Xing Chen,Xiao Liang,Jun Qin,Yan Zhang,Taixing Huang,Zhuo Wang,Bo Peng,Peiheng Zhou,Haipeng Lu,Shouxin Zhang,Longjiang Deng,Ming Liu,Qi Liu,He Tian,Lei Bi
出处
期刊：Physical Chemistry Chemical Physics [The Royal Society of Chemistry]
日期：2016-11-23 卷期号：19 (5): 3486-3497 被引量：94
链接
nih.govdoi.org
标识
DOI：10.1039/c6cp07501k
摘要
We report a systematic study of the fatigue mechanism of yttrium-doped hafnium oxide (HYO) ferroelectric thin films deposited by pulsed laser deposition.
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