Surface recombination probabilities of H on stainless steel, a-Si:H and oxidized silicon determined by threshold ionization mass spectrometry in H2 RF discharges

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作者
Patrick Kae-Nune,J. Perrin,J. Jolly,Jean Guillon
出处
期刊:Surface Science [Elsevier]
卷期号:360 (1-3): L495-L498 被引量:71
标识
DOI:10.1016/0039-6028(96)00732-7
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