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Hot-Electron-Induced MOSFET Degradation - Model, Monitor, and Improvement

降级(电信) 热载流子注入 阈值电压 负偏压温度不稳定性 晶体管 栅氧化层
作者
Chenming Hu,S. Tam,Fu-Chieh Hsu,P.K. Ko,Tung-Yi Chan,K.W. Terrill
出处
期刊:IEEE Journal of Solid-state Circuits [Institute of Electrical and Electronics Engineers]
卷期号:20 (1): 295-305 被引量:169
标识
DOI:10.1109/jssc.1985.1052306
摘要

Evidence suggests that MOSFET degradation is due to interface-states generation by electrons having 3.7 eV and higher energies. This critical energy and the observed time dependence is explained with a physical model involving the breaking of the = Si/sub s/H bonds. The device lifetime /spl tau/ is proportional to...
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