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Effect of different stacking orders of Ta2O5 and SiO2 films on the reflective properties of a blue distributed Bragg reflector

材料科学 折射率 堆积 图层(电子) 波长 谱线 高折射率聚合物 光学 分布式布拉格反射镜 光电子学 分析化学(期刊) 纳米技术 核磁共振 化学 物理 天文 色谱法
作者
Chien‐Erh Weng,Cheng‐Fu Yang,Yuting Chen
出处
期刊:Modern Physics Letters B [World Scientific]
卷期号:36 (17) 被引量:3
标识
DOI:10.1142/s0217984922420222
摘要

The Ta 2 O 5 and SiO 2 single-layer films were deposited on the glass substrates to measure their refractive properties under different optical wavelengths. After that, the Ta 2 O 5 and SiO 2 films were used as high and low refractive index materials to design the blue distributed Bragg reflectors (DBRs) with different periods. The approximate formula proposed by Sheppard was used to calculate the maximum reflectance ratio of the bi-layer SiO–Ta 2 O 5 DBRs with two, four, six, and eight periods. The COMSOL Multiphysics software was used to simulate the reflective spectra of the SiO 2 –Ta 2 O 5 DBRs with different stacking orders and periods by incorporating the refractive indexes of the Ta 2 O 5 and SiO 2 films at a wavelength of 550 nm. The SiO 2 –Ta 2 O 5 DBRs with different periods were fabricated by depositing the Ta 2 O 5 and SiO 2 films on glass substrates, and their reflective properties were measured. We compared the measured reflective spectra of the fabricated SiO 2 –Ta 2 O 5 DBRs with the simulated reflective spectra to show the effect of the different stacking orders.
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