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Improving Device Characteristics of Dual-Gate IGZO Thin-Film Transistors with Ar–O2 Mixed Plasma Treatment and Rapid Thermal Annealing

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作者
Wei‐Sheng Liu,Chih‐Hao Hsu,Yu Jiang,Yi-Chun Lai,Hsing‐Chun Kuo
出处
期刊:Membranes [Multidisciplinary Digital Publishing Institute]
卷期号:12 (1): 49-49 被引量:49
标识
DOI:10.3390/membranes12010049
摘要

, respectively. Long-term device stability reliability tests of the DG IGZO TFTs revealed that the threshold voltage was highly stable.
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