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Surface Adsorption and Vacancy in Tuning the Properties of Tellurene

吸附 材料科学 空位缺陷 化学物理 离解(化学) 分子 带隙 纳米技术 物理化学 结晶学 光电子学 化学 有机化学
作者
Wangping Xu,Li‐Yong Gan,Rui Wang,Xiaoyan Wu,Huaizhe Xu
出处
期刊:ACS Applied Materials & Interfaces [American Chemical Society]
卷期号:12 (16): 19110-19115 被引量:23
标识
DOI:10.1021/acsami.9b21625
摘要

The emerging two-dimensional tellurene has been demonstrated to be a promising candidate for photoelectronic devices. However, there is a lack of comprehensive insight into the effects of vacancies and common adsorbates (i.e., O2 and H2O) in ambient conditions, which play a crucial role in semiconducting devices. In this work, with the aid of first-principles calculations, we demonstrate that H2O and O2 molecules behave qualitatively differently on tellurene, while water adsorption can be remarkably promoted by adjacent preadsorbed O2. Upon the formation of Te vacancies, the adsorption of both O2 and H2O molecules is enhanced. More importantly, the existence of H2O and Te vacancies can dramatically facilitate the dissociation of O2, suggesting that tellurene may be readily oxidized in humid conditions. In addition, it is found that the electronic properties of tellurene are well preserved upon either H2O or O2 adsorption on the surface. In sharp contrast, vacancies enable significant modification on the band structure. Specifically, an indirect-to-direct band gap transition is found at a vacancy concentration of 5.3%.

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