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A Machine Learning-Assisted Model for GaN Ohmic Contacts Regarding the Fabrication Processes

欧姆接触 氮化镓 制作 材料科学 接触电阻 光电子学 异质结 计算机科学 电子工程 过程(计算) 宽禁带半导体 纳米技术 工程类 操作系统 病理 医学 替代医学 图层(电子)
作者
Zeheng Wang,Liang Li,Yuanzhe Yao
出处
期刊:IEEE Transactions on Electron Devices [Institute of Electrical and Electronics Engineers]
卷期号:68 (5): 2212-2219 被引量:14
标识
DOI:10.1109/ted.2021.3063213
摘要

Gallium nitride (GaN) devices have been successfully commercialized due to their superior performance, especially their high-power transformation efficiency. To further reduce the power consumption of these devices, the optimization for the ohmic contacts is attracting more and more attention. In the light of the mature and powerful machine learning (ML) techniques, this work provides a novel method to evaluate the fabrication processes of the ohmic contacts in AlGaN/GaN heterojunction, n-type, and p-type GaN, by establishing a regression-based model. The proposed model can not only investigate the influence weight of each process but also predict the contact resistance by inputting the desired recipes. A website (http://ohmic.zeheng.wang/) containing the successfully trained model for the readers' interests is also provided, which, we believe, would benefit the society of the process development and optimization.
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