Reliability of Copper Sintered Interconnects Under Extreme Thermal Shock Conditions

可靠性(半导体) 热冲击 材料科学 热的 休克(循环) 可靠性工程 计算机科学 冶金 工程类 物理 热力学 医学 内科学 功率(物理)
作者
Sri Krishna Bhogaraju,Francesco Ugolini,Federico Belponer,Alessio Greci,Gordon Elger
标识
DOI:10.23919/empc55870.2023.10418348
摘要

Copper flakes-based sinter paste showed high reliability under thermal shock conditions. A dense and homogeneous interconnect was realized while sintering for 5 min at 275°C under 15 MPa bonding pressure, with the flakes showing the unique behavior of stacking over each other to realize a dense and homogeneous interconnect. Porosity under 10 % could be achieved. The paste could be sintered under a constant nitrogen flow and did not need a fully inert atmosphere during sintering. Under high stress thermal shock cycling of + 175/-65°C, the sintered interconnects showed a drop of 25% in the shear strength values after 1000 TST, consistent with observations made with Ag sintering. Thermal conductivity more than 200 W/mK and electrical conductivity of 20 Ms/m is achieved using the Cu sinter paste.
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