Fast Recovery Diodes for High-Current High- Voltage Insulated Gate Bipolar Transistors

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作者
J. Vobecký
出处
期刊:IEEE Electron Device Letters [Institute of Electrical and Electronics Engineers]
卷期号:43 (8): 1311-1314 被引量:1
标识
DOI:10.1109/led.2022.3187159
摘要

Silicon Fast Recovery Diodes of 4.5 kV class were produced with diameter of active area between 100 and 150 mm. Wide Safe Operation Area is experimentally demonstrated with IGBT operated at di/dt above 4 kA/ $\mu \text{s}$ for which diode recovery losses and peak power show decreasing trend above the diode average rating current of 5 kA, which is half of Insulated Gate Bipolar Transistor (IGBT) short circuit current. The role of IGBT switch and diode design on the robustness enhanced by increased diode area, is explained. The experimental results are confirmed by device simulation (TCAD).

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