Investigation of the removal mechanism in amorphous carbon chemical mechanical polishing for achieving an atomic-scale roughness

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作者
Ziyang wang,Pengzhan Liu,Seunghwan Lee,Jin-Hyoung Lee,Hyeonjeong Lee,Hyunho Kim,Seungjun Oh,Taesung Kim
出处
期刊:Applied Surface Science [Elsevier]
卷期号:: 160721-160721 被引量:1
标识
DOI:10.1016/j.apsusc.2024.160721
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