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作者
Qing Yang,Weiyuan Duan,Alexander Eberst,Benjamin Klingebiel,Yueming Wang,Ashish Kulkarni,Andreas Lambertz,Karsten Bittkau,Yongqiang Zhang,S. А. Vitusevich,Uwe Rau,Thomas Kirchartz,Kaining Ding
出处
期刊：Journal of materials chemistry. A, Materials for energy and sustainability
[The Royal Society of Chemistry]
日期：2024-01-01
被引量：6
摘要
The origin of sputter damage during transparent conductive oxide deposition is ion bombardment rather than plasma radiation. Ion bombardment increased recombination, whereas plasma radiation reduced recombination.
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