Electroless Nickel Plating for Making Ohmic Contacts to Silicon

欧姆接触 材料科学 电镀(地质) 冶金 电接点 金属化 接触电阻 光电子学 纳米技术 金属 地质学 地球物理学 图层(电子)
作者
Miles V. Sullivan,John H. Eigler
出处
期刊:Journal of The Electrochemical Society [The Electrochemical Society]
卷期号:104 (4): 226-226 被引量:155
标识
DOI:10.1149/1.2428541
摘要

A technique is described whereby an adherent plate of nickel may be deposited on silicon for use as an electrical contact. The contact may be used on either n‐ or p‐type silicon.
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