Electrochemical Deposition of Azobenzene-Containing Network Films with High-Contrast and Stable Photoresponse

发色团 材料科学 偶氮苯 咔唑 热稳定性 电化学 辐照 沉积(地质) 纳米结构 高分子化学 化学工程 光化学 电极 纳米技术 聚合物 化学 复合材料 核物理学 古生物学 物理化学 工程类 物理 生物 沉积物
作者
Ruiyang Zhao,Xuepeng Zhan,Liang Yao,Qi‐Dai Chen,Zengqi Xie,Yuguang Ma
出处
期刊:Macromolecular Rapid Communications [Wiley]
卷期号:37 (7): 610-615 被引量:10
标识
DOI:10.1002/marc.201500646
摘要

To fabricate stable photoresponsive films and devices, a cross-linked network that firmly fixes the position of the chromophores is an ideal structure, because aggregation and/or phase separation effects of chromophores in matrix can be effectively restrained in such robust films. Herein, the in situ electrochemical deposition (ED) of azo-based precursors containing multielectroactive carbazole units is utilized to construct highly cross-linked photoresponsive films. 2-(4-(9,9-bis(6-(9H-carbazol-9-yl)hexyl)-9H-fluoren-2-yl)phenyl)-1-(4-(9,9-bis(6-(9H-carbazol-9-yl)hexyl)-9H-fluoren-7-yl)phenyl)diazene (BFCzAzo) with high solvability in electrolyte solution, high electroactivity, and highly efficient photoresponsive ability is synthesized by Suzuki coupling reaction as a kind of ED precursor. A highly cross-linked photoresponsive film is fabricated by ED method using BFCzAzo as ED precursor. The film can be patterned in large area by irradiation with interfering laser beam (355 nm), and the pattern possesses excellent thermal stability and insoluble ability in both organic and inorganic solvents. Excellent reversibility of the nanostructures is demonstrated by irradiation with 550 nm laser beam.

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