Direct MoB MBene domain formation in magnetron sputtered MoAlB thin films

材料科学 蚀刻(微加工) 异质结 薄膜 各向同性腐蚀 石墨烯 纳米技术 固态 化学工程 光电子学 物理化学 化学 图层(电子) 工程类
作者
Rajib Sahu,Dimitri Bogdanovski,Jan-Ole Achenbach,Siyuan Zhang,Marcus Hans,Daniel Primetzhofer,Jochen M. Schneider,Christina Scheu
出处
期刊:Nanoscale [The Royal Society of Chemistry]
卷期号:13 (43): 18077-18083 被引量:29
标识
DOI:10.1039/d1nr05712j
摘要

Two-dimensional (2D) inorganic transition metal boride nanosheets are emerging as promising post-graphene materials in energy research due to their unique properties. State-of-the-art processing strategies are based on chemical etching of bulk material synthesized via solid-state reaction at temperatures above 1000 °C. Here, we report the direct formation of MoB MBene domains in a MoAlB thin film by Al deintercalation from MoAlB in the vicinity of AlOx regions. Hence, based on these results a straightforward processing pathway for the direct formation of MoB MBene-AlOx heterostructures without employing chemical etching is proposed here.
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