Effects of silicon doping on the chemical bonding states and properties of nitrogen-doped diamond-like carbon films by plasma-enhanced chemical vapor deposition

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作者
Kuniaki Nakamura,Haruhiko Ohashi,Yoshiharu Enta,Yoshiaki Kobayashi,Yushi Suzuki,Maki Suemitsu,H. Nakazawa
出处
期刊:Thin Solid Films [Elsevier]
卷期号:736: 138923-138923 被引量:25
标识
DOI:10.1016/j.tsf.2021.138923
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