Temperature Dependent Thermal Resistances at GaN-Substrate Interfaces in GaN Composite Substrates

材料科学 基质(水族馆) 光电子学 热导率 宽禁带半导体 复合数 氮化镓 皮秒 热的 图层(电子) 复合材料 光学 气象学 地质学 激光器 物理 海洋学
作者
Jungwan Cho,Yiyang Li,David Altman,W. E. Hoke,Mehdi Asheghi,Kenneth E. Goodson
标识
DOI:10.1109/csics.2012.6340094
摘要

We report the temperature dependent thermal properties of two types of GaN composite substrates (GaN-SiC and GaN-Si) using picosecond time-domain thermoreflectance (TDTR). The intrinsic thermal conductivity of the GaN buffer film decreases with increasing temperature, while the GaN-substrate thermal interface resistance (TIR) increases with increasing temperature. The strong temperature dependence of the GaN-substrate TIR suggests that microstructural defects within the AlN transition film and near its boundaries can be particularly important.
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