Semiconductor Device Simulation

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作者
Wolfgang Fichtner,Donald J. Rose,Randolph E. Bank
出处
期刊:SIAM journal on scientific and statistical computing [Society for Industrial and Applied Mathematics]
卷期号:4 (3): 391-415 被引量:31
标识
DOI:10.1137/0904031
摘要

The most effective way to design VLSI device structures is to use sophisticated, complex two-dimensional (2D) and three-dimensional (3D) models. This paper and its companion [1] discusses the numerical simulation of such device models. Here we describe the basic semiconductor equations including several choices of variables. Our examples illustrate results obtained from finite-difference and finite-element implementations. We stress the necessary 3D calculations for small-size MOSFET's. Numerical results on inter-electrode capacitive coupling are included.
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