抵抗
光敏性
聚合物
化学
扩散
光化学
材料科学
有机化学
光电子学
图层(电子)
热力学
物理
作者
Koji Arimitsu,Masaki Yonekura,Masahiro Furutani
出处
期刊:RSC Advances
[Royal Society of Chemistry]
日期:2015-01-01
卷期号:5 (98): 80311-80317
被引量:8
摘要
Polymers bearing acid-amplifying units were designed to suppress the excess diffusion of acid species, evaluated for their photosensitivity with photoacid generators, and applied for positive-working ESCAP resists.
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