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Investigation of Patterned Plasma Etching Processes for HJT-IBC Solar Cells: Keys to Maintaining a High Electronic Quality Surface

蚀刻（微加工） 等离子体 等离子体刻蚀 质量（理念） 光电子学 曲面（拓扑） 材料科学 纳米技术 物理 几何学 数学 图层（电子） 量子力学
作者
Junkang Wang,Chandralina Patra,Weixi Wang,Monalisa Ghosh,Pavel Bulkin,D. Daineka,Kassiogé Dembélé,Pere Roca i Cabarrocas,Karim Ouaras,Sergej Filonovich,Mathieu Frégnaux,Muriel Bouttemy,Erik Johnson
出处
期刊：Solar Energy Materials and Solar Cells [Elsevier BV]
日期：2025-04-18 卷期号：288: 113653-113653
标识
DOI：10.1016/j.solmat.2025.113653
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